インスタンス単位の UV セットの操作

特定のシェイプの個別のインスタンスを異なるマテリアルに関連付けられるように、各 UV セットをインスタンスに個別に関連付けられるようになりました。これは、オブジェクトのインスタンスのシャドウをベイク処理する際（ゲームレベルのライティングなど）、または複数のテクスチャを持つ単一シェイプのインスタンスを作成する際（多数のボックスのうち、一部はさまざまな位置に穴が開いたボックスにするなど）に非常に便利です。

UV セットがインスタンス単位である場合、UV セットファミリという言葉は、異なるインスタンスに適用されるコネクトされた UV セットを意味します。1 つのファミリでは、単一の UV セットが 1 つまたは複数のインスタンスに適用される場合があります。

インスタンスオブジェクトをレンダーするとき、あるいはハードウェアテクスチャリングによってシーンビューにインスタンスオブジェクトを表示するときに、さまざまな（インスタンス単位の）UV マッピングが表示されるようになります。

例: インスタンス単位の UV セットを持つ単一シャドウマップのベイク処理

次の例では、インスタンス単位の UV セットを使用して単一のマップにシャドウをベイク処理しています。この時点で、シーンのライトを削除することができます。このワークフローは、ゲームレベルのオブジェクトにテクスチャマップを作成する場合に便利です。

ベイク処理の詳細については、『シェーディング』マニュアルの「ライティング/シェーディング > バッチベイク（mental ray）（Lighting/Shading > Batch Bake (mental ray)）」を参照してください。

この単純なシーンには、シャドウを投影する長い円柱、ディレクショナルライト、16 × 16 のサブディビジョンを持つ小さいプレーン、そのプレーンの 2 つの追加インスタンスがあります。

シーンの設定

ベースが地表プレーン上にある細長いポリゴン円柱を作成します。
地表プレーン上および polyPlane ノードから小さなポリゴンプレーンを作成し、幅の分割数（Subdivisions Width）と高さの分割数（Subdivisions Height）をそれぞれ 16 を設定します。
ポリゴンプレーンを選択し、編集 > 特殊な複製（Edit > Duplicate Special）を選択します。
ジオメトリタイプ（Geometry Type）にインスタンス（Instance）を設定し、適用（Apply）を 2 回選択して、2 つの小さいポリゴンプレーンのインスタンスを作成します（インスタンスはオリジナルの上に表示されます）。
歩道のように互い違いにプレーンを配置します。
ディレクショナルライトを作成し（作成 > ライト > ディレクショナルライト（Create > Lights > Directional Light））、少し下にしてシリンダとプレーンに向けます。
アトリビュートエディタ（Attribute Editor）で、ライトの強度（Intensity）を 4.5 に変更します。
シャドウ（Shadows）セクションを開き、デプスマップシャドウの使用（Use Depth Map Shadows）をオンにします。
シャドウカラーを青に変更します。
mental ray レンダラを使用してシーンをレンダーします。レンダー結果はおよそ次のようになります。

必要に応じてライトの方向を調整し、シャドウが上記のレンダー結果のように、異なる位置で各ポリゴンインスタンスに適用されるように再度レンダーしてください。

これで、プレーン上でインスタンス単位の UV セットを作成できるようになりました。

インスタンス単位の UV セットの作成

3 つのポリゴンプレーンインスタンスを選択し、ポリゴン（Polygons）メニューセットで UV の作成 > 空の UV セットの作成（Create UVs > Create Empty UV Set）を選択します。
UV セットの作成オプション（Create UV Set Options）ダイアログボックスで、Sidewalk という名前の UV セットを作成し、インスタンス単位で共有しない（Per Instance Unshared）を選択します。作成（Create）をクリックします。
いずれかのポリゴンプレーンインスタンスを右クリックし、UV セット > Sidewalk (n)（UV Sets > Sidewalk (n)）を選択して、Sidewalk を選択済み UV セットにします。
すべてのポリゴンプレーンインスタンスを選択し、 UV の作成 > 平面マッピング（Create UVs > Planar Mapping）を選択して、次の項目を選択して UV を作成します。
- 投影のフィット対象（Fit Projection to）: バウンディングボックス（Bounding Box）
- 投影元（Project from）: Y 軸（Y axis）
新規 UV セットの作成（Create New UV Set）は必ずオフにしてください。
投影（Project）をクリックします。

これで UV 空間で UV がオーバーラップしないインスタンス単位の UV セットが作成されました（UV テクスチャエディタ（UV Texture Editor）を使用すると、これを確認し、必要な場合には UV を移動することができます）。

単一の UV マップにシャドウをベイク処理します。

インスタンス単位の UV セットへのベイク処理

3 つのポリゴンプレーンインスタンスを選択します。
レンダリング（Rendering）メニューセットでライティング/シェーディング > バッチベイク（mental ray）（Lighting/Shading > Batch Bake (mental ray)）を選択します。
次の設定を行います。
- ベイク処理するオブジェクト（Objects to bake）: 選択項目（Selected）
- ベイク処理先（Bake to）: テクスチャ（Texture）
- シャドウのベイク処理（Bake shadows）: オン
- ベイクセットのオーバーライドの使用（Use bake set override）: オン
- カラーモード（Color Mode）: ライトのみ（Only light）
- 単一マップにベイク処理（Bake To One Map）: オン
変換して閉じる（Convert and Close）をクリックします。
シャドウはベイク処理されますが、ベイク処理セットを UV マップにコネクトする必要があります。
いずれかのインスタンスを右クリックして、UV セット > UV リンク（UV Sets > UV Linking）を選択します。
リレーションシップエディタで、Sidewalk(0) マップをベイク処理される inBake1 にリンクします。

シャドウがベイク処理されて、正しくリンクされます。シェーディングモード（ホットキー: 6）または高精度レンダリングモードの場合は、この結果をシーンビューで確認することができます。
この時点で、シャドウはポリゴンインスタンスの UV テクスチャにベイク処理されるため、シーンのライトを削除することができます。

インスタンス単位の UV の削除

UV セットファミリをインスタンス間で共有できるようになっため、UV セットの削除処理が弱冠変更されました。

たとえば、myMap という名前のインスタンス単位のセットファミリに、2 つの子セットが含まれているものとします。1 つは複数のインスタンス（インスタンス a、b、c）に適用され、もう 1 つはインスタンス d にのみ適用されます。これがカレント UV セットです。インスタンス d を選択して、カレント UV セットの削除（Delete Current UV Set）を選択すると、インスタンス d のマップのみが削除されます（その他の UV マップは非選択インスタンスに使用されており、削除されません）。

次に、インスタンス a を選択して、カレント UV セットの削除（Delete Current UV Set）を選択すると、この UV セットはインスタンス a と共有されなくなりますが、インスタンス b と c には依然として存在します。これをまとめて削除するには、インスタンス b と c を選択してから、カレント UV セットの削除（Delete Current UV Set）を選択します。